Навигация
ОбложкаФундаментальные основы процессов химического осаждения пленок и структур для наноэлектроники / Ф.А.Кузнецов [и др.]; отв. ред. Т.П.Смирнова; Рос. акад. наук, Сиб. отд-ние, Ин-т неорганической химии им. А.В.Николаева, Иркутский ин-т химии им. А.Е.Фаворского, Ин-т физики полупроводников им. А.В.Ржанова. - Новосибирск: Издательство СО РАН, 2013. - 176 с. - (Интеграционные проекты СО РАН; вып. 37).
Оглавление книги
ВВЕДЕНИЕ (Ф.Л. Кузнецов) ........................................ 5

Глава 1  СИНТЕЗ И ХАРАКТЕРИЗАЦИЯ ЛЕТУЧИХ КОМПЛЕКСОВ МЕТАЛЛОВ
Rn, Ir, Сu, Ni С ОРГАНИЧЕСКИМИ ЛИГАНДАМИ (Н.Б. Морозова,
И.К. Игуменов) ................................................. 12
1.1  Синтез комплексов Ru, Ir, Сu, Ni с органическими
     лигандами ................................................. 13
     1.1.1  Синтез комплексов Ru(III, II) ...................... --
     1.1.2  Синтез комплексов Ir(III, II) ...................... 14
     1.1.3  Синтез комплексов Сu(II) и Ni(II) с дииминными
            лигандами .......................................... 16
1.2  Исследование термических характеристик синтезированных
     прекурсоров ............................................... 17
     1.2.1  Прекурсоры Ru(III, II) ............................. --
     1.2.2  Прекурсоры Ir(III, I) .............................. 22
     1.2.3  Прекурсоры Cu(II) и Ni(II) ......................... 25

Глава 2  НОВЫЕ РЕАГЕНТЫ ДЛЯ ПОЛУЧЕНИЯ ПЛЕНОК КАРБОНИТРИДА
КРЕМНИЯ (С.В. Сысоев, Л.Д. Никулина, А.В. Лис, В.И. Рохлин,
И.П. Цырендоржиева, М.Л. Косинова, М.Г. Воронков) .............. 28
2.1  Принципы выбора соединений для получения пленок
     карбонитрида кремния ...................................... --
2.2  Синтез новых прекурсоров для получения пленок
     карбонитрида кремния ...................................... 29
     2.2.1  Синтез силиламинов общей формулы RxSi(NR1R2)4-x .... --
     2.2.2  Синтез N-органил-N,N-бис(триметилсилил)аминов
            общей формулы (Me3Si)2NR ........................... 30
2.3  Выбор методов характеризации новых
     кремнийазотсодержащих прекурсоров для получения пленок
     карбонитрида кремния ...................................... 32
2.4  Характеризация новых кремнийазотсодержащих прекурсоров
     для получения пленок карбонитрида кремния ................. 33
     2.4.1  Характеризация методами элементного анализа
            и ЯМР-спектроскопии ................................ --
     2.4.2  Характеризация методом ИК-спектроскопии ............ --
     2.4.3  Характеризация методом комплексного термического
            анализа ............................................ 43
     2.4.4  Характеризация методом УФ-спектроскопии ............ 44
     2.4.5  Тензиметрическое исследование процессов
            парообразования новых кремнийазотсодержащих
            соединений ......................................... 45

Глава 3  ТЕРМОДИНАМИЧЕСКОЕ МОДЕЛИРОВАНИЕ ПРОЦЕССОВ
ОСАЖДЕНИЯ ИЗ ГАЗОВОЙ ФАЗЫ. ПОСТРОЕНИЕ CVD-ДИАГРАММ
(С.В. Сысоев, А.А. Титов, Л.И. Чернявский) ..................... 49
3.1  Общие принципы термодинамического моделирования с целью
     оптимизации процессов осаждения из газовой фазы ........... --
3.2  Расчет равновесного состава в многокомпонентных
     гетерогенных системах ..................................... 50
     3.2.1  Основные принципы работы алгоритма прикладной
            программы расчета физико-химического равновесия
            в Базе данных СМЭТ ................................. --
     3.2.2  Особенности термодинамического моделирования
            CVD-процессов в проточных системах ................. 52
3.3  Термодинамическое моделирование процессов осаждения
     из газовой фазы в системе Si-С-N-Н ........................ 53
3.4  Термодинамическое моделирование процессов МО CVD с
     использованием летучих Hf-содержащих прекурсоров .......... 57

Глава 4  ОСАЖДЕНИЕ МЕТАЛЛИЧЕСКИХ ПЛЕНОК Ru, Ir, Сu, Ni
МЕТОДОМ МО CVD
(Н.Б. Морозова, И.К. Игуменов) ................................. 59
4.1. Методики экспериментов по осаждению металлических слоев
     Ru, Ir, Сu, Ni методом МО CVD 
4.2  Исследование состава, структуры и морфологии тонких
     пленок металлов комплексом физико-химических методов ...... 60
     4.2.1  Тонкие слои металлического Ru ...................... --
     4.2.2  Тонкие слои металлического Ir ...................... 62
     4.2.3  Тонкие слои металлического Сu и Ni ................. 66

Глава 5  РАЗРАБОТКА ПРОЦЕССОВ ПОЛУЧЕНИЯ ДВУХ- И
ТРЕХКОМПОНЕНТНЫХ ОКСИДНЫХ ПЛЕНОК ИЗ β-ДИКЕТОНАТНЫХ КОМПЛЕКСОВ
МЕТАЛЛОВ (Т.П. Смирнова, Л.В. Яковкина, В.В. Каичев,
М.С. Лебедев, В.Н. Кичай, B.O Борисов, В.В. Кривенцев) ......... 70
5.1  Перспективы использования двух- и трехкомпонентных
     оксидных систем в современном материаловедении ............ --
5.2  Разработка процессов получения двух- и трехкомпонентных
     оксидных пленок из β-дикетонатных комплексов металлов ..... 71
     5.2.1  Синтез пленок НfО2 ................................. 72
     5.2.2  Синтез пленок двойных оксидов ...................... 73
     5.2.3  Формирование элементного состава пленок при
            синтезе из разделенных испарителей ................. 75
     5.2.4  Формирование элементного состава пленок при
            синтезе из смешанного источника .................... 76
5.3  Химическое строение пленок ................................ 77
     5.3.1  Методики анализа ................................... --
     5.3.2  Пленки НfО2 ........................................ 78
     5.3.3  Пленки (HfO2)1-x(Sc2O3)x ........................... 80
     5.3.4  Пленки (HfO2)1-x(Al2O3)x ........................... 82
5.4  Структура пленок .......................................... 85
     5.4.1  Пленки НfО2	........................................ --
     5.4.2  Пленки (HfO2)1-x(Sc2O3)x ........................... --
     5.4.3  Пленки (HfO2)1-x(Al2O3)x ........................... 88
5.5  Свойства пленок ........................................... 91
     5.5.1  Структуры Al/НfО2/Si ............................... --
     5.5.2  Структуры Al/(HfO2)x(Sc2O3)1-x/Si .................. -- 
     5.5.3  Структуры Al/(HfO2)x(Al2O3)1-x/Si ................... 92
5.6  Оптические свойства пленок ................................ 93
     5.6.1  Пленки НfО2 ........................................ --
     5.6.2  Пленки (HfO2)x(Al2O3)1-x ........................... --

Глава 6. ОТ КРЕМНИЙОРГАНИЧЕСКИХ СОЕДИНЕНИЙ-ПРЕДШЕСТВЕННИКОВ
К МНОГОФУНКЦИОНАЛЬНЫМ ПОКРЫТИЯМ ИЗ КАРБОНИТРИДА КРЕМНИЯ
(Н.И. Файнер) .................................................. 97
6.1  Свойства и методы получения слоев карбонитрида кремния
     переменного состава ....................................... --
6.2  Разработка процесса получения слоев карбонитрида кремния
     различного состава плазмостимулированным химическим
     осаждением из газовой фазы из кремнийорганических
     соединений ................................................ 98
     6.2.1  Создание метода синтеза слоев карбонитрида
            кремния ............................................ --
     6.2.2  Кинетические закономерности процессов роста
            слоев ............................................. 100
6.3  Изучение химического, фазового составов и типов
     химических связей в слоях карбонитрида кремния в
     зависимости от условий синтеза и дизайна молекулы
     вещества-предшественника ................................. 101
     6.3.1  Изучение элементного состава слоев методами
            энергодисперсионной и Оже-электронной
            спектроскопии ..................................... 102
     6.3.2  Изучение типов химических связей с помощью ИК
            и РФЭ-спектроскопии ............................... 104
     6.3.3  Изучение фазового состава КР-спектроскопией и
            РФА с использованием синхротронного излучения ..... 111
6.4  Исследование структуры слоев карбонитрида кремния
     методами растровой электронной, атомно-силовой и
     высокоразрешающей электронной микроскопии ................ 116
6.5  Исследование функциональных свойств слоев карбонитрида
     кремния различного состава в зависимости от условий
     синтеза и дизайна молекулы вещества-предшественника ...... 119
     6.5.1  Оптические свойства покрытий ...................... ---
     6.5.2  Электрофизические характеристики слоев ............ 122
     6.5.3  Механические свойства покрытий .................... 123

Глава 7  CVD-СИНТЕЗ ПЛЕНОК И ПОКРЫТИЙ НА ОСНОВЕ ФАЗ СИСТЕМЫ
В-С-N (М.Л. Косинова, Ю.М. Румянцев, В.Г. Кеслер,
В.В. Кириенко, B.C. Суляева, Ф.А. Кузнецов) ................... 127
7.1  Методы получения и свойства слоев BCxNy .................. ---
7.2  Разработка процесса получения слоев карбонитрида бора
     различного состава плазмостимулированным химическим
     осаждением из газовой фазы ............................... 128
     7.2.1  Методика синтеза пленок карбонитрида бора ......... ---
     7.2.2  Кинетические закономерности процессов роста
            слоев ............................................. 129
7.3  Изучение химического, фазового составов и типов
     химических связей в слоях карбонитрида бора в
     зависимости от условий синтеза ........................... 131
     7.3.1  Изучение элементного состава слоев методом Оже-
            спектроскопии ..................................... ---
     7.3.2  Изучение типов химических связей с помощью ИК-
            и РФЭ-спектроскопии ............................... 132
     7.3.3  Изучение фазового состава КР-спектроскопией ....... 138
7.4  Исследование функциональных характеристик слоев
     карбонитрида бора ........................................ 139

Глава 8  ИССЛЕДОВАНИЕ ХИМИЧЕСКОГО СОСТАВА ПЛЕНОК Si(B)CxNy
МЕТОДАМИ РФЭС- И ОЖЕ-СПЕКТРОСКОПИИ (В.Г. Кеслер) .............. 142
8.1  Процедура очистки поверхности образцов перед анализом .... 143
8.2  Количественный анализ химического состава пленок ......... 144
     8.2.1  Исследование эталонных образцов методом
            Оже-спектроскопии ................................. 145
     8.2.2  Исследование эталонных образцов методом
            рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии ....... 147
     8.2.3  Анализ химического состава пленок ................. 151
            8.2.3.1  Учет зарядки поверхности образцов ........ ---
            8.2.3.2  Послойный анализ структур пленка/
                     подложка ................................. 152
Список литературы ............................................. 156
Сведения об авторах ........................................... 172

В монографии представлены результаты развития процессов химического осаждения из газовой фазы металлических и диэлектрических пленок с использованием нетрадиционных летучих исходных соединений, а именно, комплексных соединений металлов и кремнийорганических соединений, синтезируемых в ИНХ СО РАН и ИрИХ СО РАН. Рассматриваются результаты исследования физико-химических свойств исходных соединений. Изложены принципы выбора исходных соединений, основанные на исследовании их термодинамических свойств и термодинамическом моделировании МО CVD процессов. Получены и исследованы наиболее важные для современной электроники и наноэлектроники материалы: металлические пленки (Си, Ni, Ru, Ir), диэлектрические пленки с высоким (high-k) и низким (low-k) значением диэлектрической проницаемости. Изучены химический, фазовый состав и структура простых и сложных оксидов на основе НfO2 (high-k диэлектрики), а также карбонитридов бора, карбонитридов и оксикарбонитридов кремния (low-k диэлектрики).
Книга адресуется студентам, аспирантам, инженерам и научным сотрудникам, занимающимся химией твердого тела, микроэлектроникой и технологией материалов электронной техники.

Выпуски
1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12 13 14 15 16 17 18 19 20 21 22 23 24 25 26 27 28 29 30 31 32 33 34 35
36 37 38 39 40 41 42 43 44 45 46 47                                              


[О библиотеке | Академгородок | Новости | Выставки | Ресурсы | Библиография | Партнеры | ИнфоЛоция | Поиск | English]
  Пожелания и письма: www@prometeus.nsc.ru
© 1997-2017 Отделение ГПНТБ СО РАН (Новосибирск)
Статистика доступов: архив | текущая статистика
 

Документ изменен: Mon Apr 11 19:02:15 2016. Размер: 18,753 bytes.
Посещение N 1209 c 28.10.2013